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      真空需求

      現代社會從收音機到攜帶電話,計算機及電視都離不開集成電路,而集成電路的消費和開展都離不開真空。

      水蒸氣遇冷會變成水滴。假如不是水蒸氣而換成鋁或其他資料,則同樣原理就是真空鍍氣。高真空中經過加熱使鋁蒸發,鋁蒸氣飛到目的外表而成膜。假如不是在真空狀態,則鋁會熄滅起來。

      用久的螢光燈兩邊會發黑,這是濺射成膜的現象。惰性氣體Ar在燈管中經過放電而成離子狀態。高速的Ar離子撞擊其他資料后使其蒸發。濺射成膜法不應用加熱而是應用使氣體分子離子化而完成。

      除此之外,經過各種氣體的化學反響而成膜(CVD)的辦法也被普遍運用。各種成膜辦法各有專長,要依據需求而定。

      真空狀態不只僅被應用于成膜方面,精細構成的薄膜上沾了灰塵或油滴之后會呈現嚴重的結果。集成電路中細線的寬度是吸煙時吐出的煙霧顆粒的1/3, 是一顆灰塵的近萬分之一。對集成電路而言,哪怕一顆煙霧的顆粒,就好象大路上停了一架大型飛機一樣,無法經過或形成短路。為了不讓灰塵落到正在消費的集成電路上,需求真空環境。

      科研范疇更是離不開真空。宇宙開發方面,為了模仿宇宙空間,當然需求真空狀態。人造衛星,火箭的消費也需求真空。察看原子的顯微鏡假如不是在真空狀態就無法觀測到物質的外表。物理學中最先端的粒子加速器中的粒子,在超高真空狀態中被加速到接近光速。




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